為什么光氧催化設(shè)備會出現(xiàn)漿液泄漏？
未知, 2021-03-26 14:14, 次瀏覽
為什么光氧催化設(shè)備會出現(xiàn)漿液泄漏？
光氧催化設(shè)備運行中可能會出現(xiàn)漏漿現(xiàn)象，那么是什么原因?qū)е鹿庋醮呋O(shè)備漏漿呢？今天，將談?wù)劄槭裁垂庋醮呋O(shè)備會發(fā)生漿液泄漏。
1.設(shè)備中的除霧器泄漏后，應(yīng)迅速密封，堵塞變形的除霧器格柵應(yīng)迅速清理干凈，以保持煙氣正常流動。
2.嚴(yán)格控制漿液的密度和PH值，及時清洗除霧器，防止設(shè)備再次堵塞。
光氧催化設(shè)備運行時會出現(xiàn)漏漿現(xiàn)象，下面分析設(shè)備漏漿的幾個原因:
1.除霧器堵塞時，煙氣壓力會逐漸增***，除霧器間隙被沖走，形成漏漿。
2.恒除霧器使用的螺栓不緊不散，導(dǎo)致除霧器開裂。
3.該部門的高溫?zé)煔鉀]有噴淋進(jìn)行冷卻處理，而是直接與除霧器接觸，造成設(shè)備表面被燙傷，沖洗時漏漿的情況。
4.光氧催化設(shè)備除霧器使用時間較長，設(shè)備內(nèi)部很多部件老化。
